半导体资料—硅烷的新发展

2025-12-29 07:03:31 乙烯基硅烷

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　　Si2H6) 和一些更高档的硅氢化合物。现在运用最多的是甲硅烷,一般咱们把甲硅烷简称

　　硅烷作为一种供给硅组分的气体源，可用来制作高纯度多晶硅、单晶硅、微晶硅、非晶

　　硅、氮化硅、氧化硅、异质硅、各种金属硅化物。因其高纯度和能完成精密操控，已

　　成为许多其他硅源没有任何办法替代的重要特种气体。硅烷已成为半导体微电子工艺中运用的最

　　首要的特种气体, 用在一切微电子薄膜制备, 包含单晶膜、微晶、多晶、氧化硅、氮化

　　硅、金属硅化物等。硅烷的微电子运用还在向纵深发展: 低温外延、挑选外延、异质外

　　延。不只用于硅器材和硅集成电路，也用于化合物半导体器材(砷化镓、碳化硅等)。在

　　超晶格量子阱资料制备中也有运用。可以说现代简直一切先进的集成电路的出产线都需

　　用到硅烷。硅烷的纯度对器材功能和成品率联络极大，更高档的器材需求更高纯度的硅

　　我国电子和大规模集成电路职业的芯片进口总额上一年高达2300亿美元。其间，一个重要

　　原因是缺少高纯度晶体硅资料，而出产高纯晶体硅有必要以高纯硅烷为根底。高纯度硅烷

　　2010年我国开发硅烷法多晶硅技能，该项意图投产，标志着具有彻底自主知识产权的成

　　套工业化硅烷出产技能在国内首先获得打破，完毕了国外技能独占和国内产品悉数依托

　　进口的前史。该项目选用硅烷法完成硅烷的工业化出产，出产的悉数过程中质料可悉数转化，

　　没有废物排放，打破了日本镁硅法、美国氯硅法等传统硅烷技能难以大规模出产和本钱

　　高、废物排放多等瓶颈。除了“硅烷法”外，其他的还有“西门子”制程和“冶金法”这

　　两种多晶硅出产办法，尤其是前者，通过改进今后成为现在主力的多晶硅出产办法。

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