第41卷第4期2023年8月低温与特气kw Temperature蚰d Specialty GaLsesV01．41．No．4Aug．，2023·总述谈论·高纯三甲硅烷基胺制备工艺的技能开展董玉成，王新鹏+，郭永洁，杨振建，陈建永(天津绿菱气体有限公司，天津300457)摘要：三甲硅烷基胺是集成电路制作中重要的硅基前驱体，大范围的使用在深邃宽比结构的硅介电膜堆积。介绍了组成三甲硅烷基胺的相关反响原理，总述了高纯三甲硅烷基胺的制备工艺，剖析了各自的长处及缺乏，并展望了未来的开展的新趋势。关键词：三甲硅烷基胺；硅基前驱体；先进制程中图分类号：TN304；7rQll7 文献标志码：A 文章编号：1007-7804(2023)04-000l-05doi：10．3969／i．issn．1007．7804...
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