金融界 2024 年 8 月 14 日音讯，天眼查知识产权信息数据显现，上海新阳半导体资料股份有限公司获得一项名为“离子注入光刻胶清洗液、其制备办法及使用“，授权公告号 CN113433807B，请求日期为 2020 年 3 月。
专利摘要显现，本发明公开了一种离子注入光刻胶清洗液、其制备办法及使用。该离子注入光刻胶清洗液，其由下述质料制得，所述的质料包含以下质量分数的组分：0.5％‑15％的氧化剂、10％‑40％的有机碱、0.005％‑6％的螯合剂、0.005％‑6％的缓蚀剂、0.1％‑10％的羧酸铵、0.005％‑1.5％的表面活性剂、0.005％‑5％的有机硅、0.005％‑2.5％的聚季铵盐和余量的水，所述的质量分数为各组分质量占质料的总质量的百分比；其间，所述的表面活性剂为 EO‑PO 聚合物 L62；所述的有机硅为巯丙基三甲氧基硅烷；所述的聚季铵盐为聚季铵盐‑16。
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