金融界2024年12月25日音讯，国家知识产权局信息数据显现，信利光电股份有限公司请求一项名为“一种AMOLED模组高效防污膜制备工艺”的专利，公开号CN 119173106 A，请求日期为2024年7月。
专利摘要显现，一种AMOLED模组高效防污膜制备工艺，详细包含如下过程：S1、预备质料：将硅化合物、碳元素和硅烷基团化合物依照9.5：0.3：0.2的份额预备；S2、混合质料：将硅化合物、碳元素和硅烷基团化合物依照份额混合在一起并倒入到混合机中；S3、预备真空室：将基板放入到线、抽真空：将放置有基板的真空室抽至真空；本发明的一种AMOLED模组高效防污膜制备工艺，运用一种彻底不同的机制，涂层能够让光线简单经过指纹污迹而不发生折射，从而使指纹十分简单被躲藏起来，此外，因为该资料具有疏水性，易于清洗，其性能与现有的防指纹溶液相匹配，从而到达了即便长期屡次运用也不会被指纹污染的状况呈现。
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